Jenoptik investiert in Dresdner Standort
Jenoptik investiert einen zweistelligen Millionenbetrag in eine neue Fertigungsanlage zur Herstellung zukünftiger Sensor-Generationen für die Halbleiterausrüstung. Die neue Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage (E-Beam) soll Mitte 2022 am Standort Dresden in Betrieb genommen werden.
Die neue Anlage wird ein Kernelement bei der Entwicklung und Produktion anspruchsvollster Präzisionssensoren der nächsten Generation bilden, die für die Weiterentwicklung der DUV- und die Etablierung der hochgenauen EUV-Wafer-Belichtung in der Halbleiterfertigung unverzichtbar sind.
Eine derartige Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage kann Strukturen mit einer Präzision im 10-Nanometer-Bereich (ungefähr 1 / 2.000stel eines Haares) auf bis zu 300 mm großen Substraten „schreiben“. Jenoptik setzt dieses Verfahren unter anderem für die Herstellung von ultrapräzisen Mikrooptiken ein, die das funktionale Herzstück unserer Sensoren bilden. Hierbei wird die enorme Präzision und Flexibilität der neuen Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage dazu beitragen, dass auch zukünftige Evolutionsstufen in der Halbleiterbelichtungstechnologie erfolgreich mit den benötigten Sensoren unterstützt werden können.